掺铝氧化锌薄膜的光学性能研究
翻新时间：2013-12-18
掺铝氧化锌薄膜的光学性能研究
掺铝氧化锌薄膜的光学性能研究
从大量的制备ZAO薄膜实验数据中，分析直流磁控溅射制备工艺参数对ZAO薄膜性能的影响，总结出最佳制备工艺参数: 靶基距为7cm，沉积工作压强保持为0.5Pa,然后调节氧氩分压比为1%，加热玻璃基片到200 oC，以150W左右的溅射功率进行直流反应磁控溅射15min左右，最后在真空环境中退火处理1小时，退火温度为200oC。在最佳工艺条件下制备出的ZAO薄膜的主要性能为:膜厚在600nm左右，可见光区平均透射率为89.2%，光学性能能满足使用的需求。
本论文主要从薄膜的结构、光学特性变化的机理入手，为进1步全面研究ZAO薄膜的制备、结构特性、光学特性打下了坚实的基础，也对ZAO薄膜的实际应用具有积极意义。
关键词：ZAO薄膜，直流磁控溅射，可见光透射率，光学性能
The Al-doped ZnO(ZAO) thin film optical properties research
Keywords : ZAO film, DC magnetron sputtering, visible light transmittance, optical properties
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